西泠印社集团
承办单位：西泠印社美术馆
支持单位：中国职工文化体育协会大众篆刻分会等
二、征集主题
以“印记浙江 印向未来”为主题，聚焦浙江地域文化资源，展示浙江深厚的历史文化与新时代发展成就，讲好浙江故事、传播中华优秀传统文化，助力文化强省建设。
三、征集内容
依据给定的篆刻词条（附件一），参展作者自选内容并设计创作，词条内容不得更改，规定词条之外的作品不予入展。
四、征集对象
倡导全民参与，鼓励各单位、团体集体组织参与，含政府机关、企事业单位、学校、社会组织工作人员和广大篆刻爱好者等。
五、创作要求
1. 篆刻作品严格按照词条内容开展设计和制作，避免出现政治错误及虚假低俗内容，自觉遵守中央八项规定精神，印章创作不提倡使用名贵石材，鼓励采用物美价廉、形式多样的印章材料，崇尚绿色节俭。
2.鼓励创新，印章创作倡导大众篆刻新理念（印言美、印言志、印言情、印言趣、印言事、印言史，简称“印六言”）、新主题（印记浙江 印向未来）、采用新设计（电脑或AI人工智能）、新造型（3D建模和打印）、新材料（空心玻璃微珠、碳纤维、琉璃、合金、陶瓷、亚克力等）、新科技（篆刻机、3D打印、彩色喷绘和智能芯片等）。
3.本次展览优先入选创新创意（印面边款、设计造型、材料工艺等）的大众篆刻作品，经专家评审后，通知印章创作者制作实体印章。如作者采用传统篆刻形式，印章使用的印材价值不得超过500元。
4. 印章字体不限，应遵循符合篆刻艺术审美规律，大小篆不可混用，繁简体不可混用，杜绝错别字。
5.鼓励篆刻、设计、建模、制作等相关单位或个人开展合作，允许作者并列。作品创作方法参考《大众篆刻创作指南》（另发）。
6.鼓励创作者在作品创意、造型设计和加工制作环节，同步录制编辑短视频、微短剧，为展览宣传提供生动的影像素材。
7.作品投稿遵循自愿原则，不收取参展费，亦不付稿酬，作者应保证对投稿作品拥有全部知识产权，同意授予展览主办单位对本人参展作品的媒体宣传、展出、印刷作品集等方面的使用权。作品必须为作者原创，任何因涉嫌抄袭、伪造、剽窃所引起的投诉和纠纷，均由本人承担相应的法律责任，并取消其参展资格。参展作品恕不退还本人，由西泠印社美术馆收藏，向作者颁发参展证书及《作品集》。
六、征集流程
（一）2026年1月20日前，完成印章创作设计，并将《投稿作品设计方案表》（附件二）和设计图（图片大小不低于2M）发送至指定邮箱dzzkfh@126.com。
（二）2026年2月10日前，组织专家评审，并反馈修改意见，通知入选作者制作实体印章。
（三）2026年3月1日前，入选作者将参展作品（一式两件）及《参展作品信息表》（附件三）和《授权书》（附件四）寄送至指定地址，《参展作品信息表》（电子版）发送至指定邮箱。
（四）2026年3月15日前，展览组委会确定入书入展作品。
七、投稿信息
项目咨询：郑老师18767925712
创作咨询：周老师13806319917
黄老师13918332007
李老师15250487900
邮箱：dzzkfh@126.com（邮件标题统一为：大众篆刻作品展投稿+姓名+联系电话）
实体作品收件地址：浙江省杭州市拱墅区新天地街309号西泠·武林美术馆7楼观乐楼（作品注明个人信息，并附《投稿作品设计方案表》）
附件一：“印记浙江 印向未来——大众篆刻作品展”词条.pdf
西泠印社美术馆
2025年12月
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